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Teknekについて

Teknekは30年以上にわたって、コンタクトクリーニング装置の研究、開発、生産、保守に取り組み、異物問題に対するソリューション提供に専念しています。

当社はこの技術の発明元として技術革新とサービスに努め、この分野をリードしています。

お客様の生産プロセスでの欠陥ゼロ達成。それがTeknekの目標です。

 


1980

The first DCR hand roller

1981

The first Clean Machine

1984

PC600 The first PCB machine

2003

The first sheeted adhesive

2005

The “ECO” adhesive

2009

Nanocleen™ roller and adhesive First silicon-free cleaning system

2014

HVCC – first high vacuum cleaner certified to operate in high vacuum

2014

DLCC First dual lane SMT cleaner

2015

UTF – First controlled “Surface” cleaning roller

2016

Nanocleen™ 20.20 – First roller to meet ANSI/ESD s20.20 2014

2018

NT™ First silicone roller to meet ANSI/ESD s20.20

2019

SMT-II a new benchmark in SMT board cleaning. With Low Static Cleaning and Low Applied Pressure

1999

New 5,000sqm purpose-built facility opens

2001

Teknek Japan opens

2004

Teknek Hong Kong opens

2007

Research & Development laboratories open

2010

First Cleaning Roller Production Facility to meet ISO6261 Class A

2016

Teknek certified ISO 9000:2015

2000

IQ Surf partner Dupont

2013

Clean 4 Yield OLED/OPV Holst Institute

2015

Matteucci Award Best Paper at AMICAL

2016

Prosurf Fraunhofer Institute

2016

Methods for Optical Film Cleaning University of Huddersfield

2017

Win The Best Cleaning Equipment Award at SH NEPCON

2018

SMT 2017 Machine received SMT China Award of 'The Best Cleaning Machine' at SH NEPCON, China

2018

SMT 2017 win the Title of 'EM Asia Innovation Award -- The Best Cleaning Machine'

2018

SMT 2017 Wins the Title of ‘Innovation Award’, which presented by SMTA