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Teknekについて

Teknekは30年以上にわたって、コンタクトクリーニング装置の研究、開発、生産、保守に取り組み、異物問題に対するソリューション提供に専念しています。

当社はこの技術の発明元として技術革新とサービスに努め、この分野をリードしています。

お客様の生産プロセスでの欠陥ゼロ達成。それがTeknekの目標です。

 


1980

The first DCR hand roller

1981

The first Clean Machine

1984

PC600 The first PCB machine

2003

The first sheeted adhesive

2005

The “ECO” adhesive

2009

Nanocleen™ roller and adhesive First silicon-free cleaning system

2014

DLCC First dual lane SMT cleaner

2014

HVCC – first high vacuum cleaner certified to operate in high vacuum

2015

UTF – First controlled “Surface” cleaning roller

2016

Nanocleen™ 20.20 – First roller to meet ANSI/ESD s20.20 2014

1999

New 5,000sqm purpose-built facility opens

2001

Teknek Japan opens

2004

Teknek Hong Kong opens

2007

Research & Development laboratories open

2010

First Cleaning Roller Production Facility to meet ISO6261 Class A

2016

Teknek certified ISO 9000:2015

2000

IQ Surf partner Dupont

2013

Clean 4 Yield OLED/OPV Holst Institute

2015

Matteucci Award Best Paper at AMICAL

2016

Prosurf Fraunhofer Institute

2016

Methods for Optical Film Cleaning University of Huddersfield